纳米二氧化硅抛光液
产品详情
抛光范围:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟,精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。金属镜面抛光
抛光特点:具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石玉器等的抛光加工。
应用范围:纳米氧化硅分散液具有粒径小,溶度高,分散好等特点,用在抛光液中,以化学作用为主,添加螯合剂,活性剂,可以解决表面粗糙度,波纹度,表面缺陷等传统问题,可以做光学镜面抛光,宝石镜面抛光等精密抛光。
技术指标:
型号 | 外观 | 粒径 nm | 含量 % | 溶剂 | 产品特性及应用 |
YC-SI10WP | 半透明液体 | 10 | 20 | 水 | 精密抛光,宝石抛光 |
YC-SI30WP | 白色乳液 | 30 | 20 | 水 | 精密抛光,宝石抛光 |
YC-SI50WP | 白色乳液 | 50 | 20 | 水 | 精密抛光,宝石抛光 |
YC-SI100WP | 白色乳液 | 100 | 20 | 水 | 精密抛光,宝石抛光 |
询盘